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高精度芯片制造的關鍵設備——光刻機，是半導體行業的重中之重，而光刻膠作為光刻機制造芯片時的關鍵材料，其地位更是舉足輕重的。光刻膠能否國產化生產，關系到中國近萬億半導體市場的正常運轉。早在2014年中國成立集成電路投資基金，截止到去年年底總共籌備了3387億，主要用于對半導體行業芯片制造、設備研發等領域的投資。而在投資的行業當中，對光刻膠研發企業的扶持也在其中。中國想要打造完善的半導體生態鏈，對芯片以及光刻機的研發自然重要，而光刻膠也不能落下。

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中國自主生產芯片制造的核心材料——光刻膠其國產化迫在眉睫

作為光刻機制造芯片所用的核心材料，光刻膠的全球市場份額基本被美日韓三國占據，而這樣的局面一直沒有被打破，光刻膠生產技術更是各國難以觸及的高度。中國想要半導體各行業齊頭并進，光刻膠這種尖端材料必須拿下來。光刻膠是一種多種成分組成的敏感感光液體，主要用于制造芯片硅板上電路的印刻。而在這個過程中，光刻膠的質量是影響最終芯片性能以及成品率的重要材料，這也是我國為何要高價從國外進口高質量光刻膠的原因。因此中國國產高質量光刻膠是迫在眉睫的。

隨著我國投資力度的加大高質量光刻膠行業已經有了重大突破

目前我國正在處于芯片以及光刻機的攻關當中，目標是在今年年底之前，實現32納米以上的光刻機自主生產、2025年前14納米以上光刻機實現30%的國產率，同樣在該年我國芯片要達到70%的自給率。近幾年來我國也加大了在光刻膠領域的投資力度，承接光刻膠研發任務的企業也在各地開花。蘇州瑞紅公司首先將第二代光刻膠實現量產，標志著02專項國家重點科技項目的突破。南大光電研發第四代光刻機的ArF光刻膠，是我國在芯片制造材料的重大突破，打破了此前我國高質量光刻膠缺乏的局面。

中國在半導體領域已經具備了整整四代光刻膠量產的實力

最為引人注目的是，北京科華遞交的極紫外光刻機的光刻膠研發項目已經通過驗收。目前除了第五代光刻機——EUV極紫外光刻機的光刻膠尚未實現國產外，我國光刻膠目前大部分具備國產自足的能力。而光刻膠不只僅存在于半導體行業，其種類也有著差別。除了光刻機光刻膠外，還有著LCD光刻膠、PCB光刻膠等等。如今我國在半導體光刻膠領域已經實現了第一代、第二代量產，第三代初步量產、第四代光刻膠已經攻克正處于認證階段，一旦認證完成便可以投入量產實用。

隨著光刻膠替代計劃的開啟我國半導體生態行業也應該齊頭并進

隨著光刻膠替代計劃的全面開啟，這種被國外壟斷的高端材料，我國已經實現了由光刻膠進口、光刻膠國產研發到光刻膠量產的突破。并且國產光刻膠的企業已經接到了長江存儲、中芯國際等龍頭芯片企業的訂單，這無疑給半導體行業部件的研發注入了一支強心劑，起到了推波助瀾的作用。整個半導體芯片行業的齊頭并進，一頭都不落下，芯片設備的研發到芯片生產材料的跟進，才是半導體生態的完善局面。我們也有理由相信我國在光刻機設備的研發上，征途漫長但未來可期。