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隨著中國芯片產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展，中國對芯片生產(chǎn)設(shè)備的需求也逐漸提升。從最初的28nm，再到14nm，最后到現(xiàn)在國際流行的7nm工藝，工藝的升級意味著中國需要更先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備，而其中最關(guān)鍵的設(shè)備無疑是光刻機(jī)。

光刻機(jī)也叫做激光雕刻機(jī)，是一種專門用來制造微小電子元件的設(shè)備，至于這個“微小”要微小到什么程度呢？就拿當(dāng)今世界上最流行的芯片工藝來說，7nm工藝大概要求大概是人類頭發(fā)絲的萬分之一，可以想象這其中的技術(shù)有多難了。

然而，要制造出最先進(jìn)的7nm芯片，就不能沒有光刻機(jī)。近段時間，我國中芯國際與荷蘭ASML公司鬧得很不愉快，原因是中芯國際早在2018年就向荷蘭ASML公司訂購兩臺光刻機(jī)，其中包括一臺EUV光刻機(jī)，然而，ASML到現(xiàn)在還沒有完成交付。而對于中芯國際公司來說，EUV光刻機(jī)是最急需的設(shè)備，因?yàn)闆]有先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，中芯國際就沒辦法進(jìn)行下一階段的研發(fā)。

解決了芯片技術(shù)上的問題，卻解決不了設(shè)備的問題，這是我國半導(dǎo)體行業(yè)的一個“心病”。可能一些小伙伴們就要問了，既然ASML公司不愿意賣給我們，我們?yōu)槭裁醋约涸炷兀恐袊墓饪虣C(jī)也不一定比荷蘭差呀。實(shí)際上，中國在光刻機(jī)上還真就比荷蘭差很多，并且據(jù)專家估算，這中間至少有著15年的差距。

前面也說過了，光刻機(jī)是一種高科技產(chǎn)物，要求非常精密，一時間肯定是難以造出來的。而我國實(shí)際上也進(jìn)行過光刻機(jī)的研發(fā)，并且這件事要追溯到半個世紀(jì)以前的60年代。當(dāng)時，我國的專家們就已經(jīng)研發(fā)出了65型接觸式光刻機(jī)，而當(dāng)時荷蘭ASML公司還要過5年才成立，說來也是諷刺，既然我國當(dāng)時領(lǐng)先了荷蘭ASML五年，如今怎會變得如此落后呢？

原來，在80年代，我國光刻機(jī)技術(shù)出現(xiàn)了一次“滑鐵盧”，不知道是科研資金不夠還是“飄了”，我國科研人員甚至一度放棄了光刻機(jī)的研究，并且倡導(dǎo)從國外進(jìn)口。可能當(dāng)時的人沒能考慮到進(jìn)口的弊端，于是自研光刻機(jī)的事就一直被擱置了起來，就連前面20年的研究成果，也都付諸東流了。

也許是中國半導(dǎo)體行業(yè)的不景氣，就連最后堅(jiān)守在光刻機(jī)行業(yè)的武漢三廠最終也選擇了轉(zhuǎn)行，并賣起了零食，后來，直到臺灣臺積電公司開發(fā)出了193nm光刻機(jī)，國人才終于頓悟，原來直至今日，我國光刻機(jī)還是依靠進(jìn)口。

（來源：“思想火炬”微信公號） 

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