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 1965年我國就有了光刻機(jī)

上個世紀(jì)60年代，可以說是我國科技史上比較輝煌的一個年代，在這個年代誕生了兩彈一星。

比如1960年11月15日，中國仿制的第1枚導(dǎo)彈發(fā)射成功；1964年10月16日，中國第1個原子彈爆炸成功；1967年6月17日，中國第1顆氫彈空爆成功；1970年4月24日，中國第1個人造衛(wèi)星發(fā)射成功。

但除了兩彈一星之外，實際上我國在其他科技領(lǐng)域也取得了一些不俗的研究成果，比如1965年，中國科學(xué)院就研制出了65型接觸式光刻機(jī)。 

在上世紀(jì)60年代那么艱難的環(huán)境之下，我國仍然能夠誕生出一大批重大科研成果，這確實是非常不容易的。

我國光刻機(jī)水平曾無限接近世界先進(jìn)水平

提到光刻機(jī)，現(xiàn)在大家能夠想起的就是荷蘭的ASML，它目前壟斷了全球80%以上的高端光刻機(jī)市場，再下來就是日本的尼康和佳能，而目前我國自主研發(fā)的光刻機(jī)跟世界頂尖水平差距是非常大的。

但在80年代之前，實際上我國的光刻機(jī)曾經(jīng)無限接近世界先進(jìn)水平。

在1965年研發(fā)出6K型接觸式光刻機(jī)之后，光刻機(jī)研發(fā)并沒有停止，而是繼續(xù)向前推進(jìn)，并取得了不俗的成果。

1970年中國科學(xué)院開始研制計算機(jī)輔助光刻掩膜工藝。

1974年1445所開始研制光刻機(jī)。

1977年1445所研制成功GK-3型半自動光刻機(jī)，這是一臺接觸式光刻機(jī)。

1978年1445所在GK-3的基礎(chǔ)上開發(fā)了GK-4，把加工原片直徑從50毫米提高到75毫米。

1980年清華大學(xué)研制出第4代分布式投影光刻機(jī)精度高達(dá)3微米，這個光刻機(jī)技術(shù)水平在當(dāng)時僅至于美國，已經(jīng)接近國際主流水平。

1981年，我國科學(xué)院半導(dǎo)體所研制成功JK-1型半自動接近式光刻機(jī)。

1982年，我國科學(xué)院研制的KHA-75-1光刻機(jī)，該光刻機(jī)在當(dāng)時的水平均不低，最保守估計跟當(dāng)時最先進(jìn)的canon相比最多也就不到4年。

1985年，機(jī)電部研制出了分步光刻機(jī)樣機(jī)，通過電子部技術(shù)鑒定，認(rèn)為達(dá)到美國4800DSW的水平。

光刻機(jī)研發(fā)陷入停滯狀態(tài)

如果按照80年代之前光刻機(jī)研發(fā)節(jié)奏研發(fā)下去，我國的光刻機(jī)是很有可能達(dá)到世界頂尖水平的，要知道我國光刻機(jī)在1965年就已經(jīng)研發(fā)出來了，而ASML到了1984年才正式成立，相當(dāng)于我國光刻機(jī)的研發(fā)時間要比當(dāng)今全球最頂尖的光刻機(jī)生產(chǎn)商ASML還要早差不多20年。

但是時間上的領(lǐng)先并沒有換來技術(shù)上的領(lǐng)先，發(fā)展到今天，我國光刻機(jī)技術(shù)跟國際頂尖光刻機(jī)的差距已經(jīng)非常大，而我國光刻機(jī)研發(fā)之所以跟國際頂尖水平差距越來越大，這跟上世紀(jì)80年代我國光刻機(jī)的貿(mào)易路線有很大的關(guān)系。

自從改革開放之后，我國跟國際的交流進(jìn)一步增強(qiáng)，我國很多芯片都開始從自己研發(fā)轉(zhuǎn)向以進(jìn)口為主，因為這些進(jìn)口的芯片不僅性能比我們自己研發(fā)的好，更關(guān)鍵的是價格比自己研發(fā)的還便宜。

在這種背景之下，很多企業(yè)出于自身利潤的考慮，就主要通過進(jìn)口芯片為主，而不是把更多的精力和資金放在研發(fā)自主芯片身上。

在這種特殊的環(huán)境之下，光刻機(jī)的研發(fā)其實是非常被動的，因為光刻機(jī)研發(fā)要投入大量的資金，這樣會消耗企業(yè)很大的成本，所以很多企業(yè)根本不愿意去研發(fā)光刻機(jī)，特別是在上個世紀(jì)90年代，國際光刻機(jī)長時間陷入193納米無法取得進(jìn)展的時候，很多企業(yè)更不愿意把大量的資金投入到光刻機(jī)的研發(fā)當(dāng)中。

再加上1996年以美國為首的西方國家簽署了《瓦森納協(xié)定》（關(guān)于常規(guī)武器和兩用物品及技術(shù)出口控制的瓦森納協(xié)定），之后很多西方國家都對中國出口技術(shù)進(jìn)行封鎖，這讓我國的光刻機(jī)研發(fā)陷入更加被動的局面，結(jié)果導(dǎo)致我國的光刻機(jī)陷入了長時間的停滯狀態(tài)，光刻機(jī)的技術(shù)水平也從接近國際領(lǐng)先水平，逐漸被后來者超越。

總結(jié)

從1965年到現(xiàn)在已經(jīng)過去了幾十年的時間，本來我國有很大的希望引領(lǐng)全球光刻機(jī)技術(shù)的，就像超級計算機(jī)技術(shù)那樣。

但是因為光刻機(jī)的研發(fā)難度比較大，要投入的人力、精力、資金比較多，而企業(yè)更在乎的是短期的利潤，所以不愿意把大量的資金投入到光刻機(jī)的研發(fā)當(dāng)中，結(jié)果導(dǎo)致我國光刻機(jī)技術(shù)跟國際頂尖水平的差距越來越大。

我們也希望我國能從這段經(jīng)歷當(dāng)中吸取教訓(xùn)，對于光刻機(jī)這種頂尖技術(shù)來說，不能光看眼前的利益，而是要著眼于未來的發(fā)展，只有沉下心來投入大量的精力和資金去研發(fā)包括光刻機(jī)在內(nèi)的高精尖技術(shù)，才能確保我國在未來的競爭當(dāng)中處于優(yōu)勢的地位，而不是處處被人限制。

作者： 南瓜   來源：天蝎金融