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劉芮、鄧宇:光刻機大敗局
點擊:  作者:劉芮、鄧宇    來源:半導體行業聯盟  發布時間:2020-06-03 13:03:47

 

在芯片領域,有一樣叫光刻機的設備,不是印鈔機,但卻比印鈔機還金貴。

 

歷數全球,也只有荷蘭一家叫做阿斯麥(ASML)的公司集全球高端制造業之大成,一年時間造的出二十臺高端設備,臺積電與三星每年為此搶破了頭,中芯國際足足等了三年,也沒能將中國的首臺EUV光刻機迎娶進門。

 

但其實,早在上世紀80年代,阿斯麥還只是飛利浦旗下的一家合資小公司。全司上下算上老板31位員工,只能擠在飛利浦總部旁臨時搭起的板房里辦公。一出門就能看到板房旁邊一只巨大的垃圾桶。出門銷售,也只能頂著母公司的名義,在對手的映襯下,顯得弱小、可憐,又無助。

 

 

不過說起來,作為半導體行業皇冠上的明珠光刻機的本質其實與投影儀+照相機差不多,以光為刀,將設計好的電路圖投射到硅片之上。在那個芯片制程還停留在微米的時代,能做光刻機的企業,少說也有數十家,而尼康憑借著相機時代的積累,在那個日本半導體產業全面崛起的年代,正是當之無愧的巨頭。

 

短短四年,就將昔日光刻機大國美國拉下馬,與舊王者GCA平起平坐,拿下三成市場份額。手里幾家大客戶英特爾、IBM、AMD、德州儀器,每天排隊堵在尼康門口等待最新產品下線的熱情,與我們如今眼巴巴等著阿斯麥EUV光刻機交貨的迫切并無二致。

 

但誰也不曾想,二十年不到,風光對調,作為美國忠實盟友的阿斯麥一躍翻身,執掌起代工廠的生殺大權,更成為大國博弈之間的關鍵殺招。如果我們交不出EUV,摩爾定律就會從此停止,阿斯麥如是說。

 

但這真的只是一個盛產風車、郁金香國家,憑借一個三十多人的創始團隊,所誕生的一個制造業奇跡,半導體明珠嗎?

 

其實,從那臺等了整整三年還未曾交付的EUV背后,我們不難看出背后真正的贏家。

 

灰姑娘翻身做王后背后,綿延十多年的,是封鎖與反抗,也是復仇與合作。

 

Part.1

 

從市場角度出發,作為上世紀九十年代最大的光刻機巨頭,尼康的衰落,始于那一回157nm光源干刻法與193nm光源濕刻法的技術之爭。

 

背后起主導作用的,是由英特爾創始人之一戈登·摩爾(Gordon Moore)提出的的一個叫做摩爾定律的產業規范:集成電路上可容納的元器件的數量每隔1824個月就會增加一倍(相應的芯片制程也會不斷縮?。?。而每一次制程前進,也會帶來一次芯片性能性能的飛躍。

 

這是對芯片設計的要求,但同時也在要求光刻機的必須領先設計環節一步,交付出相應規格的設備來。

 

幾十納米時代的光刻機,門檻其實并不高,三十多人的阿斯麥能輕易入局這個行業,連設計芯片的英特爾也可以自己做出幾臺嘗嘗鮮,難度左右不過是把買回來的高價零件拼拼湊湊,堆出一臺難度比起照相機高深些許的設備。

 

尼康與他們不同的是,對手靠的是產業鏈一起發力,而尼康的零件技術全部自己搞定,就像如今的蘋果,芯片、操作系統大包大攬,隨便拿出幾塊鏡片,雖不見得能吊打蔡司,但應付當時的芯片制程卻是綽綽有余的。

 

但造芯也好,造光刻機也好,關卡等級其實是指數級別增加的,上世紀90年代,光刻機的光源波長被卡死在193nm,成為了擺在全產業面前的一道難關。

 

雕刻東西,花樣要精細,刀尖就得鋒利,但是要如何把193nm的光波再細呢?大半個半導體業界都參與進來,分兩隊人馬躍躍欲試:

 

尼康等公司主張用在前代技術的基礎上,采用157nm F2激光,走穩健道路。

 

新生的EUV LLC聯盟則押注更激進的極紫外技術,用僅有十幾納米的極紫外光,刻十納米以下的芯片制程。

 

但技術都已經走到這地步,不管哪一種方法,做起來其實都不容易。

 

這時候臺積電一個叫做林本堅的鬼才工程師出現了:

 

降低光的波長,光源出發是根本方法,但高中學生都知道,水會影響光的折射率——在透鏡和硅片之間加一層水,原有的193nm激光經過折射,不就直接越過了157nm的天塹,降低到132nm了嗎!

 

 

林本堅拿著這項沉浸式光刻方案,跑遍美國、德國、日本等國,游說各家半導體巨頭,但都吃了閉門羹。甚至有某公司高層給臺積電COO蔣尚義捎了句狠話,讓林本堅不要攪局。[1]

 

畢竟這只是理想情況,在精密的機器中加水構建浸潤環境,既要考慮實際性能,又要操心污染。如果為了這一條短期替代方案,耽誤了光源研究,吃力不討好只是其次,被對手反超可就不好看了。

 

于是,尼康選擇了在157nm上一條道走到黑,卻沒意識到背后有位虎視眈眈的攪局者。

 

當時尚是小角色的阿斯麥決定賭一把,相比之前在傳統干式微影上的投入,押注浸潤式技術更有可能以小博大。于是和林本堅一拍即合,僅用一年時間,就在2004年就拼全力趕出了第一臺樣機,并先后奪下IBM和臺積電等大客戶的訂單。

 

 

尼康晚了半步,很快也就亮出了干式微影157nm技術的成品,但畢竟被阿斯麥搶了頭陣,更何況波長還略落后于對手。等到一年后又完成了對浸潤式技術的追趕,客戶卻已經不承認老情人,畢竟光刻機又不是小朋友玩具,更替要錢,學習更要成本。

 

但這一切還只是個開始。

 

Part.2

 

兩千年初踏錯了干刻濕刻的選擇之前,其實早于1997年,在美國政府一手干預下,尼康被EUV LLC排擠在外時,就已經注定了如今光刻機市場一家獨大的結局。

 

前面提到,當年為了嘗試突破193nm,英特爾更傾向于激進的EUV方案,于是早在1997年,就攢起了一個叫EUV LLC的聯盟。

 

聯盟中的名字個個如雷貫耳:除了英特爾和牽頭的美國能源部以外,還有摩托羅拉、AMD、IBM,以及能源部下屬三大國家實驗室:勞倫斯利弗莫爾國家實驗室、桑迪亞國家實驗室和勞倫斯伯克利實驗室。

 

這些實驗室是美國科技發展的幕后英雄,之前的研究成果覆蓋物理、化學、制造業、半導體產業的各種前沿方向,有核武器、超級計算機、國家點火裝置,甚至還有二十多種新發現的化學元素。

 

資金到位,技術入場,人才云集,但偏偏聯盟中的美國光刻機企業SVGUltratech早在80年代就被尼康打得七零八落,根本爛泥扶不上墻。于是,英特爾想拉來尼康和阿斯麥一起入伙。但問題在于,這兩家公司,一個來自日本,一個來自荷蘭,都不是本土企業。

 

偏偏,美國政府又將EUV技術視為推動本國半導體產業發展的核心技術,并不太希望外國企業參與其中,更何況八十年代在半導體領域壓了美國風頭的日本。

 

EUV光刻機又幾乎逼近物理學、材料學以及精密制造的極限。光源功率要求極高,透鏡和反射鏡系統也極致精密,還需要真空環境,配套的抗蝕劑和防護膜的良品率也不高。別說是對小國日本與荷蘭,就算是美國,想要一己之力自主突破這項技術,也是癡人說夢。

 

美國自然不會給日本投誠然后扼住美國半導體咽喉的機會。在一份提交給國會的報告之中,專家明確指出尼康可能會將技術轉移回日本,從而徹底消滅美國光刻機產業。[2]

 

日本是敵人,但荷蘭還是有改造成美利堅好同志的機會的。

 

為了表現誠意,阿斯麥同意在美國建立一所工廠和一個研發中心,以此滿足所有美國本土的產能需求。另外,還保證55%的零部件均從美國供應商處采購,并接受定期審查。所以為什么美國能禁止荷蘭的光刻機出口中國,一切的原因都始于此時[3]

 

但不管怎么說,美國能源部還是和阿斯麥達成了協議,允許其加入EUV LLC,共同參與開發,共享研究成果。

 

6年時間里,EUV LLC的研發人員發表了數百篇論文,大幅推進了EUV技術的研究進展,割地求和的阿斯麥雖然只是其中的小角色,但也有機會分得一杯羹。

 

分享技術只是一方面,收購走后門其實也是美國送給阿斯麥的一份大禮。2009年,美國的Cymer公司研發出EUV所需的大功率光源,成為阿斯麥的供應商,更在四年后以25億美元高價直接被并購。別忘了,這可是光刻機的核心零件,這樣頂尖的技術,全球范圍也不超過三家。

 

毫不夸張的說,阿斯麥雖然是一家荷蘭企業,但崛起的背后,其實是一場地地道道的美國式成功。

 

Part.3

 

錯失EUV關上了尼康光刻機的大門,而盟友的背叛則徹底焊死了尼康想要突圍的出路。

 

說實話,當年的英特爾為了防止核心設備供應商一家獨大,還是其實挺想帶著尼康一起玩的。

 

32nm工藝制程時甚至獨家采用尼康的光刻機,而之前的45nm,之后的22nm,也都是尼康和阿斯麥同時供貨。就連在2010年的LithoVision大會上,英特爾還宣布將一直沿用193nm沉浸式光刻至11nm節點。

 

但備胎終究是備胎,一轉身,英特爾就為了延續摩爾定律的節奏,巨資入股阿斯麥,順帶將EUV技術托付。

 

另一邊,相比一步步集成了全球制造業精華的阿斯麥,早年間就習慣單打獨斗的尼康在遭遇美國封鎖后,更是一步步落后,先進設備技術跟不上且不提,就連落后設備的制造效率也遲遲提不上來。

當年,相同制程,阿斯麥宣稱每小時可加工175200片晶圓,而尼康的數據是每小時200。

 

但果真如此嗎?這背后涉及到了一個叫做稼動率的制造業名詞。簡單理解為一臺機器設備實際的生產數量與可能的生產數量的比值。

 

使用阿斯麥的設備,三星與臺積電的稼動率常年維持在95%上下,一個詞語概括,靠譜!

 

但反觀尼康,被迫自研,什么零件都能做,但又總是差點意思。導致同一批次的相同設備,每一臺的性能都不盡相同。就像買了二十臺蘋果手機,這臺只能發微信,那臺只能刷視頻,剩下18臺還正送檢維修。

 

設備雖便宜,但稼動率最多只能達到50%左右,對晶元代工廠來說,實在不劃算。[7]

 

因此,英特爾新CEO上任后,立刻拋棄了尼康,甚至就連大陸的芯片代工廠都看不上尼康,只能退出IC光刻,生產出的設備,只能賣給三星、LG、京東方,用來生產面板。

 

這邊舊人哭,那邊新人笑:2012年,英特爾連同三星和臺積電,三家企業共計投資52.29億歐元,先后入股阿斯麥,以此獲得優先供貨權,結成緊密的利益共同體。

 

站在EUV LLC的肩膀上,背靠美國支持,又有客戶送錢,阿斯麥自此正式成為全村的希望,在摘取EUV光刻機這顆寶石的道路上,一路孤獨的狂奔。

 

終于,在2015年,第一臺可量產的EUV樣機正式發布。正所謂機器一響,黃金萬兩,當年只要能搶先拿到機器開工,就相當于直接開動了印鈔產線,EUV光刻機也因此被冠上了印錢許可證的名號。

 

 

而在這臺機器價值1.2億美元,重達180噸的巨無霸設備背后,實際上90%的部件均來自外部廠商,美國和歐洲的更是其中代表。

 

整個西方最先進的工業體系,托舉起了如今的阿斯麥。而一代霸主尼康,也自此徹底零落在歷史的塵埃之中。

 

遠川研究所科技組:

 董指導(科技組組長):科技,驅使我的腳步,在月光下摩擦。 

陳帥(科技組高級分析師):不想當分析師的財經編輯不是一個好記者。

 劉芮(科技組高級分析師):還請多指教。

 

參考資料

[1]. 拉下尼康,ASML 是如何一舉稱王的,魔鐵的世界

[2]. Cooperative Research and DevelopmentAgreements and Semiconductor Technology: Issues Involving the “DOE-IntelCRADA”, CRS Report for Congress

[3]. U.S. gives ok to ASML on EUV effort,EE Times

[4]. 光刻機詳解(1):光源系統篇,qbdp

[5]. EUV光刻技術隱秘往事:近40個國家入局,研發難度超原子彈,魔鐵的世界

[6]. 光刻機之戰,金捷幡

[7]. 失去的制造業:日本制造業的敗北,湯之上隆

 

本文來源:遠川科技評論  作者:劉芮、鄧宇

責任編輯:向太陽
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