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在芯片領域，有一個叫光刻機的設備，不是印鈔機，但卻比印鈔機還金貴。

全球只有荷蘭一家叫做阿斯麥（ASML）的公司集全球高端制造業之大成，一年時間造出二十臺高端設備，臺積電與三星每年為此搶破了頭，中芯國際足足等了三年，也沒能將中國的首臺EUV光刻機迎娶進門。

目前，全球光刻機已由荷蘭ASML、日本尼康和佳能公司完全壟斷。據芯思想研究院（ChipInsights）數據，2020年上述三家公司半導體用光刻機出貨413臺，較2019年的359臺增加54臺，漲幅為15%。其中，ASML公司出貨258臺，占比62.47%；尼康公司出貨31臺，占比7.51%；佳能公司出貨122臺，占比29.54%。

根據光刻機領域的數據來看，全球市場上百分之九十的份額都被國外的巨頭公司所掌控。其中，在高端的光刻機領域，ASML公司更是一家獨秀，它制造的EUV光刻機是其他公司都制造不出來的。生產一臺EUV光刻機需要用上10萬個零部件，背后還有5000家供應商的支持。要知道EUV光刻機是唯一可以生產7nm芯片的設備，缺少這種光刻機的話，就沒有辦法生產出高制程的芯片。

光刻機的重要性不言而喻，沒有光刻機就造不了芯片，設計好的芯片電路圖就無法曝光在晶圓上，中國研究人員一直在努力。

光刻機是有種類需求之分的，ASML只是在中高端市場占據主導地位，在后道封裝光刻機領域，ASML影響力就未必那么大了。除此之外，面向配套生產設施中的應用設備領域，數字光刻機也是備受關注的。在數字光刻機方面，中國公司正式宣布，將啟動生產項目。

近日，源卓微電子裝備有限公司舉辦了DiSS系列數字光刻機投產儀式，其將在湖南常德啟動總投資2億元的生產線項目，主要投產自主研發的DiSS數字步進掃描光刻機，2022年預計年產150臺設備。

DiSS數字光刻機的全稱是Digital-Step-Scan，根據需求而言，源卓微電子的DiSS數字步進掃描光刻機擁有強大的應用能力，和主流的EUV，DUV光刻機不同，它的應用范圍雖然小眾，卻也能發揮重要的產業價值。

目前，源卓微電子掌握的設備還包括DiSS-28D，DiSS-35T等系列產品，算上2022年投產的項目，預計將在DiSS系列取得更大的產業突破。

在一定程度上來看，源卓微電子自研的DISS數字光刻機正式投產的意義非常重大，不僅可以助力國產半導體產業，而且還補齊了我們在光刻機基礎技術和供應體系等方面的短板。

可能會有人說，DISS數字光刻機并不是高端光刻機，也解決不了國內市場的芯片危機。但是，這足以證明ASML的擔憂正在應驗，就算沒有圖紙，我們也可以生產出光刻機。

我們國產自主研發也突破了光刻機設備上非常多的核心零部件，包括雙工件臺、物鏡系統、浸沒系統和光源系統等等。雙工件臺由華卓精科負責，上海微電子也能提供整機裝備，光源系統有望通過中科院的高能同步輻射光源設備來解決。

在國產光刻機領域，先是中科院的高能同步輻射光源設備，然后是中科科美的兩大鍍膜裝置，分別可以解決國產光刻機在光源以及光學鏡頭的需求。

由中科院高能物理研究所參與承建的高能同步輻射光源設備，已經實現安裝。這項高能同步輻射光源也被央視公開“點名”，用了較長篇幅進行報道。

中科科美分別研制了直線式勞埃透鏡鍍膜裝置和納米聚焦鏡鍍膜裝置。這兩項裝置主要面向光刻機的鏡頭配備，有了這些鍍膜裝置，可以很大程度提高國產光刻機在光學鏡頭上的水準。

雖然我們制造出整臺EUV光刻機還有一段距離，但是隨著每一項技術的進步，都在奠定國產光刻機的未來，加速國產光刻機的發展。而且推動了國產光刻機從成熟工藝到高端工藝的邁進。

一旦成功掌握，中國可能會生產出更便宜，成本更低的光刻機設備。事實證明，外界的限制因素只會讓國產科技發展得更快，沒有什么力量是可以阻止國產科技崛起的。

對于國內光刻機市場來說，源卓微電子研發的DISS數字光刻機正式下線投產無疑是一個好消息，但是我們也要記住，半導體芯片領域所有的突破都不在一朝一夕，需要不斷積累核心技術和經驗，更需要有“十年磨一劍”的精神，只要我們不放棄，終會迎來爆發的一天。

對國產光刻機你有什么看法呢？

來源：工程客微信號